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「原子層堆積（ALD技術による薄膜形成」
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第5回 微細加工プロセス技術セミナー（2021年1月13日） • 【チュートリアル】 • 講師：北海道大学 松尾保孝 • 原子層堆積（Atomic Layer Deposition：ALD）による薄膜作製技術は絶縁酸化薄膜形成のみならず、ガスバリア等にも応用展開が期待されています。本セミナーでは、その原理およびメカニズムからナノメートルレベルでの膜厚均一制御などのALD薄膜作製技術の解説をします • ▶関連動画 • 「原子層堆積装置による多種多様な材料・デバイスへの薄膜形成技術」 • 「原子層堆積装置による多種多様な材料・デバイスへの薄膜形成技術」
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