【フォトリソグラフィ】最先端の半導体露光装置が数ナノメートルの表面加工できる仕組み

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次世代フォトリソグラフィEUVについて解説しました。 • EUVフォトリソグラフィ技術には様々な技術が集結していますが、今回はEUV光源を調べてみました。非常に難解です･･･。 • 動画を作成する際に下記のリンクを参考にしました。 • ・KOMATSU TECHNICAL REPORT • 2016 VOL. 62 NO.169 • 半導体製造用短波長光源：エキシマレーザーからLPP‐EUV光源への挑戦 • https://home.komatsu/jp/company/tech-... • ・日本貿易振興機構 • 10ナノの壁、極端紫外線（EUV）で乗り越える • https://www.jetro.go.jp/world/asia/kr... • ・オリンパス • 顕微鏡の光学原理～顕微鏡の能力～ • https://www.olympus-lifescience.com/j... • ・ウシオ電機 • 光技術情報誌「ライトエッジ」No.30（2008年3月発行） • ４.これからの光源　４.１ EUV 光源 • https://www.ushio.co.jp/jp/technology... • #半導体 • #フォトリソグラフィー • #極端紫外線 • #EUV • #光 • #電磁波

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